【48812】佳能光刻机！大迸发！

  从安全的视点来看，每个国家都在重复进行本钱出资。产能将过剩，但对设备制作商来说将是顺风车。

  光刻机最中心的技能便是光源，光刻机按光源技能先进次第可分为紫外光UV，深紫外光DUV、极紫外光EUV三大类。DUV、EUV最为商场紧缺，现在EUV被禁运危险下，DUV也面对卡脖子危险。

  【芯榜】旗下化合物半导体研讨中心，聚集碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）等化合物半导体。

  在2021年前所未有大缺芯中，一台三十年前佳能的二手光刻机身价暴升17倍，2014年价格不到10万美元，却足足被炒作卖到了170万美元。尽管这台光刻机仅适用于4至8英寸的晶圆，只能用于350nm的技能。

  2022年头，佳能表明要投入500亿日元（约合25亿元人民币）新建半导体设备工厂，首要增产光刻设备，而建成后估计产能将进步2倍。

  当时，全球的光刻机首要可大致分为两类，EUV与DUV。简略来说，EUV大多数都用在7nm及更先进的制程，在这一个商场中，来自荷兰的阿斯麦一家独大。而在14nm以及更老练的制程中，则首要运用的是DUV设备，这一商场则由阿斯麦和来自日本的佳能、尼康三分全国。由于前史的原因，在光刻机的出产中，阿斯麦选用全球分工，尤其是光刻机的中心零部件光源大多数来源于美国，因此会遭到更多的美国长臂统辖，而日本企业更多选用笔直一体化的出产形式，相对来说受限较小。政治原因之外，于佳能而言，凭仗我国商场，完结光刻机工业的“弯道超车”，则是另一重它的隐秘“芯事”。

  在行的或许知道，日本的佳能、尼康的光刻机商场占有率曾遥遥领先荷兰ASML，在前次佳能扩产光刻设备的2000年左右，ASML由于和台积电的一次触电式协作，从无名小卒一骑绝尘，反观佳能、尼康现已逐步走下坡路。

  2000年头，因一场光刻机干湿道路之争，光刻机商场格式被ASML打破。2004年，ASML和台积电一起研宣布全球首台滋润式微影机，凭仗优异的功能和安稳的技能，ASML一举碾压走“干法”道路的佳能和尼康，尼康、佳能从此沦为二三线半导体设备厂商。

  佳能现在出售的光刻机触及i-line到KrF等级，没有浸入式光刻机，在EUV范畴简直不或许赶超ASML，正在研讨“纳米压印光刻（NIL）”，尝试以低成本来制作顶级半导体。

  2021年佳能的i-line、KrF两类光刻机出货量达140台，较2020年出货添加18台，增幅15%，其间出货主力i-line机台出货了102台。佳能猜测2022年半导体光刻设备的销量比上年增加29％，增至180台，最近10年内激增至4倍。建造新工厂后，2个基地的总产能将增至约2倍，以此满意暴增的半导体设备需求。

  尽管高端光刻机攻不下，但中低端光刻机还有商场。比方佳能在2021年出货的新式i线步进式光刻机“FPA-3030i5a”，能够制作硅基以及SiC（碳化硅）和GaN（氮化镓）等化合物半导体晶圆。

  佳能还联合铠侠开发NIL工艺，声称能够不运用EUV光刻机将芯片制程提升到5纳米水平。

  所谓NIL技能，是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上，一起照耀光线完结一次性转印，被称为是最有远景的光刻技能之一。

  比较EUV，NIL首要有两大优势。榜首，NIL更省钱。第二，技能愈加独当一面。第三，能够做5纳米。

  我国半导体面对美国联合围堵的境况下，日本光刻机能否东山再起？咱们拭目而待。

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